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从行业竞争格局来看,美国、日韩掩膜版厂商处于领先地位。重点企业主要包括福尼克斯★■■、PKL■★■★★、丰创光罩,具体如图所示◆★◆:
中商情报网讯:掩模版(Photomask)又称光罩、光掩模、光刻掩模版、掩膜版◆■■★◆、掩膜板等,是光刻工艺中关键部件之一,是下业产品制造过程中的图形“底片”转移用的高精密工具,是承载图形设计和工艺技术等知识产权信息的载体。
掩膜版是微电子制造过程中的图形转移母版★★★◆◆◆,是平板显示★◆■■★◆、半导体◆★■、触控、电路板等行业生产制造过程中重要的关键材料,其中★◆★◆★,半导体是掩膜版最主要的应用领域,占比60%。中商产业研究院发布的《2024-2029年中国掩膜版市场调查与行业前景预测专题研究报告》数据显示◆★◆■■■,2018-2022年,全球半导体掩膜版市场规模由40.41亿美元增长至49亿美元,复合年均增长率达4.9%,预计2024年半导体掩膜版市场规模将继续增长至53◆◆★.24亿美元。
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